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離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實(shí)驗(yàn)，也適合于特定制樣需求實(shí)驗(yàn)室。離子切割配合不同的工作氣體可以切割各種氧氣切割難以切割的金屬，尤其是對于有色金屬（不銹鋼、鋁、銅、鈦、鎳）切割效果更佳。其主要優(yōu)點(diǎn)在于切割厚度不大的金屬的時(shí)候，離子切割速度快，尤其在切割普通碳素鋼薄板時(shí)，速度可達(dá)氧切割法的5-6倍、切割面光潔、熱變形小、較少的熱影響區(qū)。離子切割的主要切割規(guī)范簡述如下：1.空載電壓和弧柱電壓離子切割電源必須具有足夠高的空載電壓，才能容易引弧和使離子弧穩(wěn)定燃燒。空...

掃描電鏡樣品臺可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像，掃描電鏡有較高的放大倍數(shù)且連續(xù)可調(diào)，是當(dāng)今十分有用的科學(xué)研究儀器。對于它試驗(yàn)的樣品來說有哪些要求呢？1.形態(tài)必須耐高真空如有些含水量很大的細(xì)胞，在真空中很快被抽干水分，細(xì)胞的形態(tài)也發(fā)生了改變，無法對各類型細(xì)胞進(jìn)行區(qū)分。2.樣品表面不能含有有機(jī)油脂類污染物油污在電子束作用下易分解成碳?xì)浠?，對真空環(huán)境造成極大污染。樣品表面細(xì)節(jié)被碳?xì)浠衔镎谏w；碳?xì)浠衔锝档土顺上裥盘柈a(chǎn)量；碳?xì)浠衔镂皆陔娮邮饴芬饦O大象散；碳?xì)浠?..

鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應(yīng)用廣泛的真空設(shè)備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現(xiàn)。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成。真空設(shè)備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。鍍膜儀的基本技術(shù)要求說明：1.設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T的規(guī)定。2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電...

離子研磨設(shè)備是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復(fù)合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。離子研磨設(shè)備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級CCD顯微鏡，可以準(zhǔn)確地把樣品定位在幾個(gè)微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動控制樣品搖擺，以避免...

真空鍍膜儀通過連續(xù)監(jiān)控在線生產(chǎn)來保證鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)良性，提高車間生產(chǎn)線上的工作效率。鍍膜儀的種類多樣主要分為：蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備系列、離子真空鍍膜儀系列、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備。由于真空鍍膜儀的應(yīng)用非常的廣泛，目前已經(jīng)滲透到車輛、土木建筑工程、機(jī)械、包裝、環(huán)境保護(hù)、醫(yī)藥及醫(yī)療器械、石油、化工、食品、光學(xué)、電氣、電子、原子能、半導(dǎo)體、航空航天、低溫、專用機(jī)械、紡織、造紙、農(nóng)業(yè)以及民用工業(yè)等工業(yè)部門和科學(xué)研究工作中。真空鍍膜儀的應(yīng)用是很復(fù)雜的，用戶需求掌握必定的操作常識，我們來一起學(xué)習(xí)...

鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統(tǒng)，用于制備超薄，細(xì)顆粒的導(dǎo)電金屬膜和碳膜，以適用于超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀包含內(nèi)置式無油真空系統(tǒng)石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達(dá)驅(qū)動樣品臺。真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細(xì)化，膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并...

徠卡高真空鍍膜儀是磁控濺射、多弧離子、蒸發(fā)鍍膜的混合性設(shè)備，是在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩(wěn)的長處，適合鍍各種復(fù)合膜。徠卡高真空鍍膜儀主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。在防止油污染和縮短工作周期等方面具有有效的性能。徠卡高真空鍍膜儀的主要結(jié)構(gòu)講解：1.蒸騰與磁控濺射的混合設(shè)備：多功能，合適量產(chǎn)，適...